首页> 外国专利> Method and apparatus for investigating the latch-up propagation in complementary-metal-oxide semiconductor (CMOS) circuits

Method and apparatus for investigating the latch-up propagation in complementary-metal-oxide semiconductor (CMOS) circuits

机译:用于研究互补金属氧化物半导体(CMOS)电路中闩锁传播的方法和装置

摘要

Since known methods for investigating latch-up propagation have only a comparatively slight chronological resolution, a method and apparatus are proposed in which latch-up is periodically triggered and the intensity of the infrared radiation emanating from an integrated circuit is sensed at a plurality of measuring points that cover the circuit in a grid-like manner in order to respectively determine, at the measuring points, within what time span the intensity of the infrared radiation reaches a threshold, and to respectively register a measured value representing the time interval in a location-dependent manner.
机译:由于用于研究闩锁传播的已知方法仅具有相对较小的时间分辨率,因此提出了一种方法和装置,其中周期性地触发闩锁,并且在多次测量中感测从集成电路发出的红外辐射的强度。以网格状方式覆盖电路的点,以便分别在测量点处确定在什么时间范围内红外辐射的强度达到阈值,并分别在一个位置记录代表时间间隔的测量值依赖的方式。

著录项

  • 公开/公告号US5012100A

    专利类型

  • 公开/公告日1991-04-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT;

    申请/专利号US19890346920

  • 发明设计人 JOERG QUINCKE;ERICH PLIES;

    申请日1989-05-03

  • 分类号G01J5/00;H04N3/00;H04N7/18;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 05:46:33

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号