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机译:响应于在氯离子选择电极中的使用而制备膜的方法。
公开/公告号DE3875369T2
专利类型
公开/公告日1993-05-13
原文格式PDF
申请/专利权人 HORIBA LTD JP;
申请/专利号DE19883875369T
发明设计人 UEMATSU HIROAKI JP;
申请日1988-03-15
分类号G01N27/30;G01N27/40;
国家 DE
入库时间 2022-08-22 05:02:04
机译: 选择性渗透膜,其制备方法及其在电极情况下的用途。
机译: 离子电极响应玻璃膜的制造方法,离子选择电极和离子电极响应玻璃膜
机译: 离子选择膜,其制备方法,使用离子选择膜的装置以及具有该离子选择膜的装置