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Selected methylol-substituted trihydroxybenzophenones and their use in phenolic resin compositions and processes of forming resist images

机译:选定的羟甲基取代的三羟基二苯甲酮及其在酚醛树脂组合物中的用途和形成抗蚀剂图像的方法

摘要

A methylol-substituted trihydroxybenzophenone of the formula (I): ##STR1## This methylol-substituted trihydroxybenzophenone may be reacted with selected phenolic monomers during or after the formation of a phenolic novolak resin thereby said resin having at least one unit of formula (II): ##STR2## wherein R and R.sub.1 are individually selected from hydrogen, a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
机译:式(I)的羟甲基取代的三羟基二苯甲酮:在酚醛清漆树脂形成期间或之后,该羟甲基取代的三羟基二苯甲酮可以与选定的酚类单体反应,从而使所述树脂具有至少一个式(I)的单元。 II):其中R和R 1分别选自氢,具有1-4个碳原子的低级烷基或具有1-4个碳原子的低级烷氧基。

著录项

  • 公开/公告号US5254440A

    专利类型

  • 公开/公告日1993-10-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 OCG MICROELECTRONIC MATERIALS INC.;

    申请/专利号US19920953381

  • 发明设计人 MEDHAT A. TOUKHY;

    申请日1992-09-30

  • 分类号G03F7/32;G03F7/023;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 04:57:36

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