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机译:一种校正引起的静磁场变化的方法-nmr中的位置偏差-成像设备。
公开/公告号DE3789933T2
专利类型
公开/公告日1994-09-08
原文格式PDF
申请/专利权人 HITACHI MEDICAL CORP JP;
申请/专利号DE19873789933T
发明设计人 NISHIMURA HIROSHI JP;
申请日1987-10-29
分类号G01N24/08;
国家 DE
入库时间 2022-08-22 04:36:35
机译: 一种核磁共振成像装置中静磁场位置偏差引起的变化的校正方法。
机译: 校正NMR成像设备中由静磁场变化引起的位置偏差的程序
机译: 校正NMR成像设备中由静磁场变化引起的位置偏差的过程。