首页> 外国专利> ELECTROLESS PLATING SOLUTION OF A PLASTIC MATERIAL TO SOLVED EASLIY AN ALKALI

ELECTROLESS PLATING SOLUTION OF A PLASTIC MATERIAL TO SOLVED EASLIY AN ALKALI

机译:塑料材料的无电电镀解决方案,轻松解决碱的问题

摘要

The plating solution contains (A) copper salt (copper sulfate or copper chloride) ; (B) 64mM/L complexing agent for cupric ions such as 1,5,8,12-tetraazadodecane, 1,4,8,12-tetraazacyclopentadecane, 1,4,8,12-tetraazaundecane, or 1,4,8,11-tetraazacyclotetradecanol ; (C) 68mM/L reducing agent of borane compound such as dimethylamineborane, tributylamineborane or pyridineborane ; (D) pH buffer agent such as valine(pH7-pH8), tris(hydroxymethyl) aminomethane (pH9), or borax (pH8-pH9) ; (E) 0.2mM/L2mM/L additive such as 1,10-phenanthroline, 2,2-bipyridine or cyanide; and (F) 0.05M/l0.2M/L surfactant such as laurylsulfate, FC96 polyethyleneglycol, polyethyleneether, or hexadecyltriammoniumhydroxide.
机译:镀液包含:(A)铜盐(硫酸铜或氯化铜); (B)64mM / L络合剂,用于铜离子,例如1,5,8,12-四氮杂十二烷,1,4,8,12-四氮杂环十五烷,1,4,8,12-四氮杂十一烷或1,4,8, 11-四氮杂环十四烷醇; (C)68mM / L的硼烷化合物的还原剂,例如二甲胺硼烷,三丁胺硼烷或吡啶硼烷; (D)pH缓冲剂,例如缬氨酸(pH7-pH8),三(羟甲基)氨基甲烷(pH9)或硼砂(pH8-pH9); (E)0.2mM / L2mM / L添加剂,例如1,10-菲咯啉,2,2-联吡啶或氰化物; (F)0.05M / 10.2M / L表面活性剂,如十二烷基硫酸盐,FC96聚乙二醇,聚乙烯醚或十六烷基三铵氢氧化物。

著录项

  • 公开/公告号KR950010655B1

    专利类型

  • 公开/公告日1995-09-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HOJIN IND. CO. LTD.;

    申请/专利号KR19930009293

  • 发明设计人 KIM SUN - TAEK;CHO JOM - JAE;

    申请日1993-05-27

  • 分类号C23C18/38;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 04:11:26

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号