R.sub.2,R.sub.2',R.sub.3和R.sub.3'是一个式--CH 2 CH 2 OH,-CH 2 CH(OH)CH的基团sub.2 OH-CH(CH.sub.2 OH)CH(OH)CH.sub.2 OH,--CH.sub.2(CHOH).sub.4 CH。 sub.2 OH或--CH(CH.sub.2 OH).sub.2; X是基团-CH(OH)-,-CH(CH.sub.2 OH)-,-C(OH)(CH.sub.2 OH)-或- C(CH 2 OH)。 sub.2-可用作X射线造影剂的乳浊成分。
公开/公告号US5464607A
专利类型
公开/公告日1995-11-07
原文格式PDF
申请/专利权人 DIBRA S.P.A.;
申请/专利号US19940244598
申请日1994-06-01
分类号C07C235/68;
国家 US
入库时间 2022-08-22 04:04:06