R.sub.0和R.sub.1彼此独立地是氢原子,一个C.sub.1 -C.sub。 6个烷基或具有6至14个环碳原子的芳基;& P& P& R.sub.2是式## STR2 ##的基团,其中R是具有4至19的叔烷基基团碳原子,P
[T]为具有1至14个环碳原子的C 1 -C 6亚烷基或亚芳基,并且p为2、3或4;或
A与R.sub.2一起是式## STR3 ##的基团,此外,其中R.sub.3和R.sub。在图4中,彼此独立地是氢原子,卤素原子,C 1 -C 6烷基或C 1 -C 6烷氧基,以及另一个部首具有在本申请中更精确定义的特定含义。所述聚合物可以形成化学放大的正性光致抗蚀剂的基础,所述正性光致抗蚀剂尤其表现出优异的对比度行为,在照射区域中的低收缩趋势和不明显的延迟时间影响。
公开/公告号US5558978A
专利类型
公开/公告日1996-09-24
原文格式PDF
申请/专利号US19940358131
申请日1994-12-16
分类号G03C1/73;
国家 US
入库时间 2022-08-22 03:37:52