包括燃烧室(1)和喷雾洗涤装置(16)的装置,该装置用于处理含有各种有害物质的气态流出物,特别是用于制造半导体电路,并辅以压缩元件气态流出物,并进行洗涤再生或吸附液。
通过消除燃烧室壁上的水蒸气,可以有效地处理有害物质。由于吸附流体不能与燃烧室的壁和部分接触,因此避免了对重要功能元件的结垢。气态流出物的高温确保了燃烧气体的低消耗,从而保证了装置的良好经济性。为了控制设备,在设备的不同元件中使用气流测量。 P>
公开/公告号FR2743617A1
专利类型
公开/公告日1997-07-18
原文格式PDF
申请/专利号FR19970000206
发明设计人 HORST REICHARDT;LOTHAR RITTER;GUNTER FIRKERT;KONRAD GEHMLICH;GEROLD HOFMANN;MICHAEL HENTRICH;WIDO WIESENBERG;
申请日1997-01-10
分类号F23G7/06;B01D53/14;B01D53/18;F23G5/12;F23G5/44;
国家 FR
入库时间 2022-08-22 03:12:08