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MANUFACTURING METHOD OF SILICON TIP FIELD EMITTER FOR FIELD EMISSION DISPLAY

机译:用于场发射显示器的硅尖场发射器的制造方法

摘要

By using ZMR (Zone Melting Recrystallization) process, single crystal silicon is formed on the cathode electrode to form a silicon tip field emitter for field emission display, which can simplify the manufacturing process and reduce the manufacturing cost. .
机译:通过使用ZMR(Zone Melting Recrystallization,区域熔融重结晶)工艺,在阴极电极上形成单晶硅,以形成用于场发射显示的硅尖端场发射器,这可以简化制造工艺并降低制造成本。 。

著录项

  • 公开/公告号KR0135940B1

    专利类型

  • 公开/公告日1998-04-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INSTITUTE FOR ADVANCED ENGINEERING;

    申请/专利号KR19940019595

  • 发明设计人 김한;

    申请日1994-08-09

  • 分类号H01J9/02;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 02:47:28

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