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Method of making a spacer based antifuse structure for low capacitance and high reliability

机译:用于低电容和高可靠性的基于间隔物的反熔丝结构的制造方法

摘要

The present antifuse includes a base having a first electrode thereon which defines a top surface and a side surface. Antifuse material is disposed on the first electrode on at least a portion of the top surface and at least a portion of the side surface, with a second electrode on the antifuse material. Due to this configuration, defect problems in etching oxide as part of the antifuse structure are avoided, and meanwhile capacitance of the device is very low.
机译:本发明的反熔丝包括其上具有第一电极的基底,该第一电极限定了顶表面和侧表面。反熔丝材料设置在顶表面的至少一部分和侧面的至少一部分上的第一电极上,第二电极设置在反熔丝材料上。由于这种配置,避免了在蚀刻氧化物作为反熔丝结构的一部分中的缺陷问题,并且同时该器件的电容非常低。

著录项

  • 公开/公告号US5756367A

    专利类型

  • 公开/公告日1998-05-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ADVANCED MICRO DEVICES INC.;

    申请/专利号US19950449384

  • 发明设计人 SUNIL D. MEHTA;

    申请日1995-05-23

  • 分类号H01L21/70;H01L27/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 02:39:32

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