首页> 外国专利> TARGET, MAGNETRON SOURCE WITH SAID TARGET, AND PROCESS FOR PRODUCING SAID TARGET

TARGET, MAGNETRON SOURCE WITH SAID TARGET, AND PROCESS FOR PRODUCING SAID TARGET

机译:目标,具有所述目标的磁控源以及生产所述目标的过程

摘要

When a ferromagnetic-material target (1) is used, themagnetron stray field is influencedselectively by provision of apattern of blind holes (3) in orderto counteract the effect of theferromagnetic material in theform of a magnetic short circuit.
机译:当铁磁使用物料目标(1),磁控管杂散场受到影响通过提供盲孔(3)的顺序抵消铁磁材料磁短路的形式。

著录项

  • 公开/公告号SG57061A1

    专利类型

  • 公开/公告日1999-02-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT;

    申请/专利号SG1998053911

  • 发明设计人 QUADERER HANS;WEICHART JURGEN;

    申请日1997-03-19

  • 分类号C23C14/35;C23C14/34;H01J37/34;

  • 国家 SG

  • 入库时间 2022-08-22 02:25:47

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号