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Method for forming anti-doping material of shadow mask

机译:荫罩反掺杂材料的形成方法

摘要

The present invention relates to a method for forming an anti-dipping material for a shadow mask in a cathode ray tube, comprising the steps of inorganic deposition of a anti-dumping substance on the surface of a shadow mask with a binder and an anti-And a step of immersing and drying the washed shadow mask with a dilute water-soluble polymer resin solution. Therefore, there is no variation in the thickness of the coating film, no clogging of holes, and simplification of the working process.
机译:本发明涉及一种在阴极射线管中形成用于荫罩的防倾倒材料的方法,该方法包括以下步骤:用粘合剂和抗静电剂将抗倾倒物质无机沉积在荫罩的表面上。以及用稀释的水溶性聚合物树脂溶液浸没并干燥洗涤后的荫罩的步骤。因此,涂膜的厚度没有变化,没有孔的堵塞,并且简化了工作过程。

著录项

  • 公开/公告号KR19990042410A

    专利类型

  • 公开/公告日1999-06-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 김영남;

    申请/专利号KR19970063220

  • 发明设计人 이남양;백종봉;김봉철;한윤수;

    申请日1997-11-26

  • 分类号H01J29/07;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 02:17:14

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