首页> 外国专利> POLYIMIDE COPOLYMERS CONTAINING 4-4'-BIS(AMINOPHENOXY)BIPHENYL AND SILOXANE DIAMINE MOIETIES

POLYIMIDE COPOLYMERS CONTAINING 4-4'-BIS(AMINOPHENOXY)BIPHENYL AND SILOXANE DIAMINE MOIETIES

机译:包含4-4'-双(氨基苯氧基)联苯和硅氧烷二胺部分的聚酰亚胺共聚物

摘要

The present invention contains 4,4'-bis (p-aminophenoxy) biphenyl residues, siloxane diamine residues, and dianhydride residues and is low modulus, solvent resistant, wet- useful in electrical applications as passivation and insulation coatings. It relates to an etchable polyimide.
机译:本发明包含4,4′-双(对氨基苯氧基)联苯残基,硅氧烷二胺残基和二酐残基,并且它是低模量的,耐溶剂的,可湿的-可在电气应用中用作钝化和绝缘涂层。它涉及可蚀刻的聚酰亚胺。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号