首页> 外国专利> NON-LINEAR OPTICAL SILICA THIN FILM FABRICATING METHOD AND NON-LINEAR OPTICAL SILICA DEVICE

NON-LINEAR OPTICAL SILICA THIN FILM FABRICATING METHOD AND NON-LINEAR OPTICAL SILICA DEVICE

机译:非线性光学二氧化硅薄膜制备方法和非线性光学二氧化硅器件

摘要

PURPOSE: A method for fabricating a non-linear optical silica thin film is provided to irradiate polar particles during formation of the thin film and thereby polarization orientate the thin film. CONSTITUTION: The method comprises the steps of forming a non-linear optical silica thin film under radiation of polar particles and polarization orientating the optical silica thin film. The formation of the non-linear optical silica thin film is repeated under radiation of neutral particles or non-radiation to form a plurality of areas with different substrate orientations in the thickness direction of the silica thin film. The non-linear optical silica thin film comprises GiO2-GeO2 as a principal component.
机译:目的:提供一种用于制造非线性光学二氧化硅薄膜的方法,以在薄膜形成过程中照射极性颗粒,从而使薄膜偏振取向。组成:该方法包括以下步骤:在极性粒子的辐射下形成非线性光学二氧化硅薄膜,并对光学二氧化硅薄膜进行偏振取向。在中性粒子的辐射或非辐射下重复非线性光学二氧化硅薄膜的形成,以在二氧化硅薄膜的厚度方向上形成具有不同基板取向的多个区域。非线性光学二氧化硅薄膜包含GiO2-GeO2作为主要成分。

著录项

  • 公开/公告号KR20000016845A

    专利类型

  • 公开/公告日2000-03-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TOYOTA JIDOSHA KABUSHIKI KAISHA;

    申请/专利号KR19990011727

  • 发明设计人 HASEGAWA HIROSHI;KOMEDA OSAMU;

    申请日1999-04-03

  • 分类号C03C4/00;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 01:46:00

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号