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DIFFUSION FURNACE PROCESSING TEMPERATURE CONTROL DEVICE OF DIFFUSION INSTALLATION

机译:扩散炉的扩散炉处理温度控制装置

摘要

Purpose: the diffusion furnace treatment temperature control equipment for spreading installation is arranged to realize the evenness of wall thickness for the layer stored on through the chip for equably controlling temperature in a pipe. Construction: the diffusion furnace treatment temperature control equipment for spreading installation includes the multiple temperature sensing devices being mounted on the lower wafer region in many regions for being divided into the temperature of the measurement to each region, one controller, it creates compensation adjustment value, is used for the temperature value of the analysis of control area and controls signal lamp intensity with respective group of a lamp driver.
机译:目的:布置用于扩散装置的扩散炉处理温度控制设备,以实现通过芯片存储的层的壁厚均匀,从而均匀地控制管道中的温度。结构:用于扩散安装的扩散炉处理温度控制设备包括:在多个区域的下部晶圆区域上安装了多个温度传感设备,用于将测量温度分为每个区域,一个控制器,它产生补偿调整值,用于控制区域分析的温度值,并与各组灯驱动器一起控制信号灯强度。

著录项

  • 公开/公告号KR20000018617A

    专利类型

  • 公开/公告日2000-04-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD.;

    申请/专利号KR19980036280

  • 发明设计人 AHN NAK JUN;

    申请日1998-09-03

  • 分类号H01L21/00;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 01:46:01

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