机译:减轻水冷反应器或相关设备中金属成分的一般腐蚀并在金属成分的表面上引发或扩展裂纹的方法,以及在表面上具有氧化膜的金属成分
公开/公告号JP3145600B2
专利类型
公开/公告日2001-03-12
原文格式PDF
申请/专利权人 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ;
申请/专利号JP19950042234
申请日1995-03-02
分类号G21D1/00;C23F11/18;C23F15/00;G21D3/08;
国家 JP
入库时间 2022-08-22 01:35:26