机译:复合材料,经受光化辐射降解的材料的稳定过程以及保护基材免受光化辐射降解的过程,适合于形成稳定粒料以抵抗环境辐射降解的涂层组成,光化辐射的稳定组成,照相材料以及化妆品成分
公开/公告号BR9911401A
专利类型
公开/公告日2001-03-20
原文格式PDF
申请/专利权人 CYTEC TECHNOLOGY CORP.;
申请/专利号BR19999911401
申请日1999-06-18
分类号C07D251/24;C07D251/22;C07D239/26;C08K5/3492;G03C1/73;A61K7/42;
国家 BR
入库时间 2022-08-22 01:25:58