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Fault analysis method and failure analysis device of the device under measurement

机译:被测设备的故障分析方法及故障分析装置

摘要

An analyst obtains a fault analysis method and apparatus that realizes a simple, high-precision, and fault point specification in a light-emitting analysis device without requesting a designer.;The coordinates of the light emitting point 7 on the light-emitting image 5 detected by the light emission analysis device 4 are automatically recognized (step S5), and the coordinates are automatically converted to the coordinates on the layout pattern (data) (step S7). The light emitting point 10 is automatically displayed (step S11), the node name on the netlist (data) of the light emitting point is automatically recognized (step S12) from the coordinates on the layout pattern, and is automatically displayed as the light emitting node name LN on the netlist 11 ( In step S13), the light emitting node on the circuit diagram (data) is automatically displayed as the light emitting point 14 on the circuit diagram CF at the light emitting node name LN (step S15).
机译:分析人员获得了一种故障分析方法和设备,该方法和设备可在不要求设计人员的情况下在发光分析装置中实现简单,高精度和故障点指定。发光点7在发光图像5上的坐标自动识别由发光分析装置4检测到的光(步骤S5),并且将坐标自动转换为布局图案(数据)上的坐标(步骤S7)。发光点10被自动显示(步骤S11),发光点的网表(数据)上的节点名称从布局图案上的坐标被自动识别(步骤S12),并且被自动显示为发光点。网表11上的节点名称LN(步骤S13),将电路图(数据)上的发光节点自动显示为电路图CF上的发光节点名称LN处的发光点14(步骤S15)。

著录项

  • 公开/公告号KR100276619B1

    专利类型

  • 公开/公告日2001-01-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 미쓰비시덴키 가부시키가이샤;

    申请/专利号KR19970004101

  • 发明设计人 요시다 에이지;

    申请日1997-02-12

  • 分类号H01L21/66;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 01:12:36

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