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Oxonol compound, light-sensitive material and process for the synthesis of oxonol compound

机译:恶草酚化合物,光敏材料和合成恶草酚化合物的方法

摘要

An oxonol compound is represented by the following formula (I) : ##STR1## in which Z is an atomic group that forms a cyclic amide ring; each of W.sup.1 and W.sup.2 independently is an atomic group that forms an acidic nucleus ring; and M is a cation. Other oxonol compounds, a light-sensitive material containing an oxonol compound and a process for the synthesis of an oxonol compound are also disclosed.
机译:氧杂酚化合物由下式(I)表示:其中Z是形成环状酰胺环的原子团; W.sup.1和W.sup.2分别是形成酸性核环的原子团。 M是阳离子。还公开了其他氧杂酚化合物,含有氧杂酚化合物的感光材料和氧杂酚化合物的合成方法。

著录项

  • 公开/公告号US6159673A

    专利类型

  • 公开/公告日2000-12-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FUJI PHOTO FILM CO. LTD.;

    申请/专利号US19990233444

  • 发明设计人 JUNJI NISHIGAKI;YASUAKI DEGUCHI;

    申请日1999-01-20

  • 分类号G03C1/815;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 01:06:13

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