机译:加工硅的方法,喷墨头生产系统,喷墨头,喷墨记录器,喷墨记录方法,生产彩色滤光片的系统和方法,生产场发射基质的系统和方法,以及微阵列的生产系统和方法
公开/公告号JP2003276208A
专利类型
公开/公告日2003-09-30
原文格式PDF
申请/专利权人 SEIKO EPSON CORP;
申请/专利号JP20020080460
发明设计人 YAMAZAKI SEIJI;
申请日2002-03-22
分类号B41J2/16;B41J2/01;G02B5/20;
国家 JP
入库时间 2022-08-22 00:17:47