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Optical system for measuring two-dimensional small scattering angle of X-ray radiation of high flow and low interfering background

机译:用于测量高流量低干扰背景的X射线二维二维小散射角的光学系统

摘要

An x-ray analysis system including a focusing optic for focusing an x-ray beam to a focal point, a first slit optically coupled to the focusing optic, a second slit optically coupled to the first slit, and an x-ray detector, where the focal point is located in front of the detector.
机译:X射线分析系统,包括用于将X射线束聚焦到焦点的聚焦光学器件,光学耦合到聚焦光学器件的第一狭缝,光学耦合到第一狭缝的第二狭缝和X射线检测器,焦点位于检测器的前面。

著录项

  • 公开/公告号CZ20022115A3

    专利类型

  • 公开/公告日2003-01-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 OSMIC INC.;

    申请/专利号CZ20020002115

  • 发明设计人 JIANG LICAI;

    申请日2000-12-18

  • 分类号G01N23/083;G01N23/201;

  • 国家 CZ

  • 入库时间 2022-08-22 00:03:31

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