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process for applying a self coating photokatalytischen particles on a substrate

机译:在基材上施加自涂光敏催化剂颗粒的方法

摘要

The invention concerns a method for treating substrates comprising the following steps which consist in: 1) treating the substrates with a dispersion of photocatalytic particles; 2) treating the substrate with at least a siliconized compound selected among the siliconates and the polyorganosiloxanes.
机译:本发明涉及一种处理基材的方法,该方法包括以下步骤:(1)用光催化颗粒的分散体处理基材; 2)用至少一种选自硅酸盐和聚有机硅氧烷中的硅化化合物处理基材。

著录项

  • 公开/公告号DE60001105D1

    专利类型

  • 公开/公告日2003-02-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 RHODIA CHIMIE COURBEVOIE;

    申请/专利号DE2000601105T

  • 发明设计人 ROCHER LAURENT;CHAUFFRIAT HENRI;

    申请日2000-01-25

  • 分类号C04B41/52;C03C17/42;B01J35/00;B05D7/00;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 23:40:06

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