要解决的问题:提供一种电子束处理方法和电子束处理系统,其中可以抑制绝缘膜的k值的劣化和耐化学性的降低。
解决方案:在使用电子束处理形成在被处理物品的表面上的有机材料膜的方法中,通过烃放射状形成气体用电子束照射有机材料膜。
版权:(C)2005,JPO&NCIPI
公开/公告号JP2004303786A
专利类型
公开/公告日2004-10-28
原文格式PDF
申请/专利权人 TOKYO ELECTRON LTD;
申请/专利号JP20030091878
申请日2003-03-28
分类号H01L21/312;H01L21/027;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 23:33:30