要解决的问题:提供一种用于铜和铜合金的微蚀刻剂,该蚀刻剂可以使铜和铜合金的表面变粗糙,并提供一种通过以下方法对铜或铜合金进行微粗糙化的方法:使用蚀刻剂。
解决方案:用于铜和铜合金的微蚀刻剂包含选自硫酸,烷烃磺酸,链烷醇磺酸及其衍生物的化合物(A),过氧化物(B),选自四唑及其衍生物的化合物(C),以及比铜具有更高电势的金属离子(D)(当组分(A)为硫酸时,银离子除外)。用于使铜或铜合金微粗糙化的方法使用蚀刻剂。由于铜合金和铜合金的表面被有效地粗糙化,因此即使不进行深腐蚀也不仅能够充分获得与树脂层的密合性,而且即使对铜的压延品也能够充分地粗糙化。迄今为止,用铜和铜合金的微蚀刻剂很难使合金如引线框架变粗糙。
版权:(C)2004,日本特许厅
公开/公告号JP2004003020A
专利类型
公开/公告日2004-01-08
原文格式PDF
申请/专利权人 EBARA UDYLITE KK;
申请/专利号JP20030133951
发明设计人 KOBAYASHI NOBUO;
申请日2003-05-13
分类号C23F1/18;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 23:24:30