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Reflective layer sputtering target for forming and optical recording medium with the reflective layer, a reflective layer

机译:用于形成反射层的反射层溅射靶以及具有该反射层的光记录介质,反射层

摘要

(1), and an optical recording medium has (2), the reflective layer recording layer laminated thereon (3), the protective layer (4) substrate. Reflective layer (3), and Cu of 99.7 to 73.0% by weight as the main component, Ag and 0.2 to 18.0 wt%, and a Ti of 0.1 to 9.0 wt% It is an alloy thin film made. Thickness of the reflective layer is 50nm~150nm. It has an improved corrosion resistance, an optical recording medium comprising a (3) The reflective layer is to maintain high reflectance. Target for forming a (3) the reflective layer is also provided.
机译:(1),光学记录介质具有(2),层叠在其上的反射层记录层(3),保护层(4)基板。反射层(3),以99.7重量%〜73.0重量%的Cu为主要成分,Ag为0.2重量%〜18.0重量%,Ti为0.1〜9.0重量%,为主要成分的合金薄膜。反射层的厚度为50nm〜150nm。它具有改进的耐腐蚀性,一种光学记录介质包括(3)反射层,以保持高反射率。还提供了用于形成(3)反射层的靶。

著录项

  • 公开/公告号JPWO2002021524A1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-07-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ソニー株式会社;

    申请/专利号JP20020525654

  • 发明设计人 秋森 敏博;上野 崇;小田 伸浩;

    申请日2001-08-30

  • 分类号G11B7/24;C22C9/00;C23C14/06;C23C14/14;C23C14/34;G11B7/26;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 23:24:13

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