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Methods of making the microstructure array mold or the mold master, a method for manufacturing a microstructure array is fabricated using a mold or mold masters

机译:制作微结构阵列模具或模具母模的方法,使用模具或模具母模制造用于制造微结构阵列的方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a highly durable mold or mold master for a micro-structure array. ;SOLUTION: A method for producing a mold or mold master for a micro- structure array has a process for forming an insulating mask layer 3 on the conductive part 2 of a substrate 1, a process forming a plurality of opening parts 4 having a proper shape to the mask layer 3 to expose the conductive part 2, a process for forming a first electrodeposition or electroplating layer 5 on the opening part 4 and the mask layer by electrodeposition or electroplating using the conductive part 2 as an electrode, a process for removing the mask layer 3 after forming the electrodeposition or electroplating layer 5 on the opening part 4 and the mask layer 3 and a process for forming a second electroplating layer 6 on the electrodeposition or electroplating layer 5 and the conductive part 2 after the mask layer 3 is removed.;COPYRIGHT: (C)2000,JPO
机译:要解决的问题:提供一种生产用于微结构阵列的高度耐用的模具或模具原件的方法。 ;解决方案:一种用于微结构阵列的模具或母模的制造方法,其具有在基板1的导电部分2上形成绝缘掩模层3的过程,形成具有适当形状的多个开口部分4的过程。形成掩模层3以暴露出导电部分2的形状,使用导电部分2作为电极通过电沉积或电镀在开口部分4和掩模层上形成第一电沉积或电镀层5的工艺,去除工艺在开口层4和掩模层3上形成电沉积或电镀层5之后的掩模层3,以及在掩模层3之后,在电沉积或电镀层5和导电部分2上形成第二电镀层6的工艺删除。;版权:(C)2000,日本特许厅

著录项

  • 公开/公告号JP3524425B2

    专利类型

  • 公开/公告日2004-05-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 キヤノン株式会社;

    申请/专利号JP19990094436

  • 发明设计人 手島 隆行;八木 隆行;

    申请日1999-04-01

  • 分类号B29C33/38;G02B3/00;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 23:24:09

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