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Method of making a bipolar transistor having a reduced base transit time

机译:制备具有减少的基极渡越时间的双极晶体管的方法

摘要

A bipolar transistor has a high performance and high reliability, which are obtained by enhancing a withstanding voltage between an emitter and a base. The bipolar transistor includes a first impurity diffusion layer in a semiconducting substrate, an opening disposed in the first conductive film. A third impurity diffusion layer is formed so as to contain the second diffusion layer and side walls are formed on the side walls of the opening. A fourth impurity diffusion layer in the third impurity diffusion layer is formed in the opening surrounded by the side walls.
机译:双极晶体管具有高性能和高可靠性,这是通过增强发射极和基极之间的耐压而获得的。双极晶体管包括在半导体衬底中的第一杂质扩散层,设置在第一导电膜中的开口。形成第三杂质扩散层以包含第二扩散层,并且在开口的侧壁上形成侧壁。第三杂质扩散层中的第四杂质扩散层形成在被侧壁围绕的开口中。

著录项

  • 公开/公告号US6808999B2

    专利类型

  • 公开/公告日2004-10-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SONY CORP;

    申请/专利号US20020055991

  • 发明设计人 HIROYUKI MIWA;

    申请日2002-01-28

  • 分类号H01L213/31;H01L212/20;H01L290/00;H01L270/82;H01L271/02;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 23:19:20

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