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Reflective lithography mask inspection tool based on achromatic fresnel optics

机译:基于消色差菲涅尔光学的反光光刻掩模检查工具

摘要

A mask blank inspection tool includes an AFO having a diffractive lens and a refractive lens formed on a common substrate. The diffractive lens is a Fresnel zone plate and the refractive lens is a refractive Fresnel lens. The AFO is used to image light from a defect particle on a multilayer mask blank or the surface of the multilayer mask blank to a detector.
机译:掩模坯料检查工具包括具有在同一基板上形成的衍射透镜和折射透镜的AFO。衍射透镜是菲涅耳波带片,折射透镜是折射菲涅耳透镜。 AFO用于将来自多层掩模坯料或多层掩模坯料表面上的缺陷粒子的光成像到检测器。

著录项

  • 公开/公告号US2004057107A1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-03-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 XRADIA INC.;

    申请/专利号US20030427723

  • 发明设计人 WENBING YUN;YUXIN WANG;

    申请日2003-04-29

  • 分类号G02B17/00;G02B21/00;G02B23/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 23:16:35

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