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CONTROLLED-PARAMETER REPETITIVE-PULSE CHEMICAL LASER (ALTERNATIVES)

机译:参量重复脉冲化学激光(替代品)

摘要

FIELD: quantum electronics.;SUBSTANCE: laser has gas-discharge tube placed in cavity and connected to inductance coil, main and additional active-medium excitation pulse sources, and controllable delay line of active-medium excitation pulse source. Laser designed to first and second alternative has in addition storage capacitor with parallel-connected resistor and control pulse length shaper. Laser of third design alternate has in addition diode with parallel-connected resistor and control pulse length shaper.;EFFECT: enhanced operating reliability, reduced mass, size, and cost.;4 cl, 6 dwg
机译:领域:量子电子学;物质:激光器的气体放电管放置在空腔中并连接到电感线圈,主要和附加的有源介质激发脉冲源以及有源介质激发脉冲源的可控延迟线。设计用于第一和第二替代方案的激光器另外还具有存储电容器,该电容器具有并联连接的电阻器和控制脉冲长度整形器。第三种替代设计的激光器还具有一个二极管,该二极管具有并联的电阻器和控制脉冲长度整形器。效果:提高了工作可靠性,减小了质量,尺寸和成本。4 cl,6 dwg

著录项

  • 公开/公告号RU2237955C2

    专利类型

  • 公开/公告日2004-10-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号RU20020112599

  • 发明设计人 JUDIN N.A.;

    申请日2002-05-13

  • 分类号H01S3/09;

  • 国家 RU

  • 入库时间 2022-08-21 22:44:50

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