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Being the x-ray mask blank which possesses the x-ray absorption film which with respect to x-ray mask blank and

机译:作为具有相对于X射线掩模坯料的X射线吸收膜的X射线掩模坯料,

摘要

There is disclosed an X-ray mask comprising, on a support substrate 11a, an X-ray transmission film 12 for transmitting X-rays and an X-ray absorber pattern 13a formed on the X-ray transmission film 12 for absorbing the X-rays. The X-ray absorber pattern 13a is formed of a material which contains tantalum, boron, nitrogen and/or oxygen.
机译:公开了一种X射线掩模,其在支撑基板11a上包括用于透射X射线的X射线透射膜12和形成在X射线透射膜12上用于吸收X射线的X射线吸收体图案13a。射线。 X射线吸收体图案13a由包含钽,硼,氮和/或氧的材料形成。

著录项

  • 公开/公告号JP3631017B2

    专利类型

  • 公开/公告日2005-03-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HOYA株式会社;

    申请/专利号JP19980341058

  • 发明设计人 笑喜 勉;

    申请日1998-11-14

  • 分类号H01L21/027;G03F1/16;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 22:27:20

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