要解决的问题:提供一种用于防止在存储或运输诸如半导体晶片的基板时由颗粒引起的污染的方法和结构。
解决方案:通过使干净的空气沿着水平布置在环境38的环境38中的晶片W的表面流动,在半导体晶片W的表面的整个区域上形成层流边界层或湍流边界层。相对于晶片W的表面以规定的速度具有规定的清洁度。在晶片W的表面上形成的层流边界层或湍流边界层中的流体被视为相对于微小颗粒的粘性流体。因此,即使颗粒漂浮在布置有晶片W的环境中并且朝着晶片W下落,颗粒的下降也被粘性流体层阻止,从而可以防止由颗粒引起的污染。
版权:(C)2003,日本特许厅
公开/公告号JP3631997B2
专利类型
公开/公告日2005-03-23
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社クリーントランスポートマトリックス;
申请/专利号JP20010394684
发明设计人 唐澤 康人;
申请日2001-12-26
分类号B08B5/00;B08B17/02;B65G49/00;H01L21/304;H01L21/68;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 22:27:11