首页> 外国专利> In end the epoxy basis and/or the organic polymer and its production method of possessing the okisetan basic content silicon basis

In end the epoxy basis and/or the organic polymer and its production method of possessing the okisetan basic content silicon basis

机译:最后,环氧基和/或有机聚合物及其具有奥克斯坦基本含量的硅基的生产方法

摘要

End is displayed with general system (1) offers the organic polymer which possesses the structure which.In formula, R1, from carbon count 1 the alkyl group of 20, from carbon count 6 the aryl basis of 20, the aralkyl basis of 20 or (R') shows the torioruganoshirokishi basis which is shown with 3 SiO- from carbon count 7. R2, from carbon count 1 the alkyl group of 20, from carbon count 6 the aryl basis of 20, from carbon count 7 the aralkyl basis of 20, the alkoxy group of 20 or (R') shows the torioruganoshirokishi basis which is shown with 3 SiO- from carbon count 1. X the epoxy basis and/or shows the organic basis of 1 value which contains the okisetan basis. m shows the integer of 20 or less of 0 or more. n 1, shows 2 or 3 the integer.
机译:通式(1)所示端基提供一种具有以下结构的有机聚合物。式中,R 1 ,从碳数1为20的烷基,从碳数6为芳基在图20中,20或(R')的芳烷基表示的是torioruganoshirokishi碱,由碳数7表示为 3 SiO-。R 2 的碳数为1。 20的烷基,碳数为6的芳基为基础,碳的碳数为7的芳烷基为20,烷氧基为20或(R')显示了甲苯基呋喃四郎碱,用 3 从碳数1.的SiO-。X为环氧基和/或显示1的有机基,其中含有奥克坦。 m表示0以上的20以下的整数。 n 1,显示2或3的整数。

著录项

  • 公开/公告号JPWO2003085024A1

    专利类型

  • 公开/公告日2005-08-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社カネカ;

    申请/专利号JP20030582211

  • 发明设计人 尾高 英年;安藤 寛;河野 良行;

    申请日2003-04-08

  • 分类号C08G59/20;C08G59/02;C08G65/18;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 22:27:07

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号