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Acidic solution for silver deposition and method for silver layer deposition on metal surfaces

机译:用于银沉积的酸性溶液和在金属表面上沉积银层的方法

摘要

A processing solution and a method are used for producing solderable and bondable silver layers that properties of which are not degraded even after storing, with no anti-tarnishing compounds being utilized as contrasted with prior art solutions and methods. The acidic solution for silver deposition contains silver ions and at least one Cu(I) complexing agent, said Cu(I) complexing agent being selected from the group consisting of having the structure element (I).
机译:使用一种处理溶液和方法来生产可焊接和可粘结的银层,与现有技术的溶液和方法相比,该银层的性质甚至在储存后也不会降低,并且不使用防锈化合物。用于银沉积的酸性溶液包含银离子和至少一种Cu(I)络合剂,所述Cu(I)络合剂选自具有结构元素(I)的组。

著录项

  • 公开/公告号US2005175780A1

    专利类型

  • 公开/公告日2005-08-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CHRISTIAN SPARING;HARTMUT MAHLKOW;

    申请/专利号US20040513250

  • 发明设计人 CHRISTIAN SPARING;HARTMUT MAHLKOW;

    申请日2003-05-27

  • 分类号B05D3/04;B05D1/18;C23C18/31;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 22:26:12

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