机译:用于将高折射率的液体部分地或全部地投射到投影透镜的基质和最后元素之间的成像领域中的照相术投影设备使用液体供应系统以及该装置的制备方法
公开/公告号KR20040106242A
专利类型
公开/公告日2004-12-17
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML NETHERLANDS B.V.;
申请/专利号KR20040042691
发明设计人 BANINE VADIM YEVGENYEVICH;DIERICHS MARCEL MATHIJS THEODORE MARIE;DESMIT JOANNES THEODOOR;BISSCHOPS THEODORUS HUBERTUS JOSEPHUS;MODDERMAN THEODORUS MARINUS;
申请日2004-06-10
分类号G03F7/20;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 22:06:25