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SEMICONDUCTOR APPARATUS CAPABLE OF REDUCING OUTGASSING POLLUTION AND METHOD OF ACHIEVING THE SAME

机译:能够减少排放污染的半导体装置及其实现方法

摘要

A semiconductor apparatus includes a reaction chamber, a vacuum cassette elevator having an exhaust, a door, an air-extracting device and a control device. Controlled by the controlled devices, the air-extracting device coupled to the exhaust can extract from the vacuum cassette elevator gas formed by residual reaction gas on the wafer reacting with the air in the vacuum cassette elevator.
机译:半导体装置包括反应室,具有排气口的真空盒式升降机,门,抽气装置和控制装置。在受控装置的控制下,与排气相连的抽气装置可以从真空盒升降器中抽出气体,该气体由晶片上的残留反应气体与真空盒升降器中的空气反应而形成。

著录项

  • 公开/公告号US2006237137A1

    专利类型

  • 公开/公告日2006-10-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SHAO-CHI CHANG;

    申请/专利号US20050907922

  • 发明设计人 SHAO-CHI CHANG;

    申请日2005-04-21

  • 分类号C23F1/00;C23C16/00;H01L21/306;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 21:47:17

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