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Films of Higher Impact Resistance and improved resistance to catastrophic Failure at a degree of deformation

机译:具有较高抗冲击性并在一定程度的变形下具有更好的抗灾难性破坏能力的薄膜

摘要

Stressed that the Films show good resistance to perforations and impacts and to show good resistance to the Propagation of defects. The Films have a maximum pressure of at least 200 percent, a catastofica tensile force of at least 95% of the heat Breaking elongation (cf. 5 or less).The Films preferably comprise at least 3 layers and preferably contain at least 50 percent by weight of the polyethylene Polymers.
机译:强调薄膜对穿孔和冲击具有良好的抵抗力,并且对缺陷的传播也具有良好的抵抗力。所述膜的最大压力为至少200%,卡斯塔菲卡拉伸力为所述热断裂伸长率的至少95%(参见5或更小)。所述膜优选包含至少3层,优选包含至少50%(重量)。聚乙烯聚合物的重量。

著录项

  • 公开/公告号AR047291A1

    专利类型

  • 公开/公告日2006-01-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DOW GLOBAL TECHNOLOGIES INC.;

    申请/专利号AR2004P104731

  • 发明设计人

    申请日2004-12-17

  • 分类号B32B27/32;

  • 国家 AR

  • 入库时间 2022-08-21 21:40:30

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