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BST INTEGRATION USING THIN BUFFER LAYER GROWN DIRECTLY ONTO SiO2/Si SUBSTRATE

机译:使用直接在SiO2 / Si衬底上生长的薄缓冲层进行BST集成

摘要

A BST microwave device includes a substrate and an insulating layer that is formed on the substrate. A buffer layer is formed on the insulating layer. A BST layer is formed on the buffer layer with a selected orientation for high tunability and possesses a low loss in a wavelength of interest.
机译:BST微波装置包括基板和在该基板上形成的绝缘层。在绝缘层上形成缓冲层。 BST层形成在缓冲层上,具有用于高可调性的选定取向,并且在感兴趣的波长中具有低损耗。

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