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Method for producing optically transparent regions in a silicon substrate

机译:在硅衬底中产生光学透明区域的方法

摘要

The invention relates to a simple and cost-effective method for producing optically transparent regions (5, 6) in a silicon substrate (1) with which the optically transparent regions can be realized with any thickness and can be provided above a cavity located in the silicon substrate. To this end, at least one defined region (5, 6) of the silicon substrate (1) is firstly etched whereby rendering it porous. Afterwards, the defined porous region (5, 6) of the silicon substrate (1) is oxidized.
机译:本发明涉及一种用于在硅衬底(1)中制造光学透明区域(5、6)的简单且成本有效的方法,利用该方法可以实现任何厚度的光学透明区域并且可以将其设置在位于基板中的腔上方。硅基板。为此,首先蚀刻硅衬底(1)的至少一个限定区域(5、6),从而使其多孔。之后,硅衬底(1)的限定的多孔区域(5、6)被氧化。

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