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Assembly to focus e.g. a light bundle, for optical lithography and the like, has an evanescent wave generator and amplifier for the seed evanescent fields to give a focus spot

机译:集中精力例如用于光学光刻等的光束具有消逝波发生器和放大器,用于种子消逝场以提供焦点

摘要

The assembly to focus (S) electromagnetic rays e.g. a light bundle (LB) below the diffraction threshold as seed evanescent fields, has an evanescent wave generator (EWE) and diaphragm (B) with an amplifier (EWV) to amplify the seed evanescent waves in close spatial proximity to their point of origin at the EWE. At the same time, the phases of the amplified evanescent fields are matched. The EWE is a semiconductor absorber which can be saturated.
机译:聚焦(S)电磁射线的组件一个低于衍射阈值的光束(LB)作为种子渐逝场,具有一个渐逝波发生器(EWE)和带有放大器(EWV)的光阑(B),以在接近其起点的空间上放大种子渐逝波。 EWE。同时,放大的渐逝场的相位是匹配的。 EWE是可以饱和的半导体吸收剂。

著录项

  • 公开/公告号DE102004052146A1

    专利类型

  • 公开/公告日2006-06-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FORSCHUNGSVERBUND BERLIN E.V.;

    申请/专利号DE20041052146

  • 发明设计人 HERRMANN JOACHIM;HUSAKOU ANTON;

    申请日2004-10-22

  • 分类号G02B27/56;G03F7/20;G02B21;G02F1/01;G02B27/09;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 21:20:36

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