机译:使用垂直梯度冷冻晶体生长炉用于半导体合成和晶体生长的设备,包括内部反应室,该反应室具有升华室和连接在混合室和阀上方的合成室
公开/公告号DE102005015472A1
专利类型
公开/公告日2006-10-05
原文格式PDF
申请/专利权人 PHOSTEC S.R.O.;
申请/专利号DE20051015472
发明设计人 MATUSKA JOZEF;
申请日2005-04-04
分类号C30B11;C30B29/40;C30B11/04;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 21:20:20