要解决的问题:提供一种具有低挥发性和优异的耐热性的新型的含光学稳定基团的笼状倍半硅氧烷。
解决方案:由下式(1)表示的含光稳定基团的笼状倍半硅氧烷:[R 版权:(C)2008,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2007291285A
专利类型
公开/公告日2007-11-08
原文格式PDF
申请/专利权人 SHIN ETSU CHEM CO LTD;
申请/专利号JP20060123100
申请日2006-04-27
分类号C08G77/04;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 21:14:21