机译:用于半导体基质的清洁液体组合物,制造该清洁液体组合物的方法,使用该清洁液体组合物的半导体基质的清洁方法以及制造包括该清洁方法的半导体装置的方法
公开/公告号JP2007019506A
专利类型
公开/公告日2007-01-25
原文格式PDF
申请/专利权人 SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD;
申请/专利号JP20060184683
发明设计人 HAN MYOUNG-OK;LIM KWANG-SHIN;LEE YANG-KOO;LEE JAE-SEOK;PARK JUNG-DAE;CHAE SEUNG-KI;KIM SE-YEON;KIM JEA-WOOK;KO YONG-KYUN;JUN PIL-KWON;KIM KOOK-JOO;
申请日2006-07-04
分类号H01L21/304;G03F7/42;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 21:12:39