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Enhanced sputter target manufacturing method

机译:增强溅射靶的制造方法

摘要

Method of manufacturing a cobalt or chromium or iron or nickel comprises heating raw materials under vacuum or under a partial tlakuargonu (Ar) to a fully liquid state to form a molten alloy corresponding to the system, solidifying the molten alloy into an ingot, and reheating the ingot to a fully liquid state to form a diffuse molten alloy, followed následujerychlé solidification of the diffuse molten alloy into a homogeneous pre-alloyed material, incorporation of net elemental powder, the homogeneous pre-alloyed material solidifies into a fully dense homogeneous material, and hot rolling. The method further comprises rolling dense homogeneous material cold processing at the sputter target.
机译:制造钴或铬或铁或镍的方法包括在真空下或在部分tlakuargonu(Ar)下将原料加热到完全液态以形成与该系统相对应的熔融合金,将熔融合金固化成铸锭,然后再加热铸锭至完全液态,形成扩散熔融合金,然后将扩散熔融合金凝固成均匀的预合金材料,掺入纯净元素粉末,均匀的预合金材料凝固成完全致密的均匀材料,和热轧。该方法还包括在溅射靶上进行致密的均质材料冷加工的轧制。

著录项

  • 公开/公告号CZ2006200A3

    专利类型

  • 公开/公告日2007-06-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HERAEUS INC.;

    申请/专利号CZ20000020062

  • 发明设计人 ZIANI ABDELOUAHAB;KUNKEL BERND;

    申请日2006-03-24

  • 分类号C23C14/34;C22C19;

  • 国家 CZ

  • 入库时间 2022-08-21 20:59:10

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