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Simulation method for an optical formation device involves the calculation from a pre-defined value from a value range of an image defect of the image device's influenced parameters

机译:用于光学形成装置的模拟方法包括根据图像装置的受影响参数的图像缺陷的值范围的预定值进行计算。

摘要

The simulation method involves the calculation from a pre-defined value from a value range of an image defect of the image device's influenced parameters. The predefined image knowledge base of the image device is optimised such that the value range is predefined. The parameter of the optical image devices is adjustable via the value range. The calculated evaluation may be implemented iteratively.
机译:该模拟方法涉及根据图像设备的受影响参数的图像缺陷的值范围的预定值进行计算。优化图像设备的预定义图像知识库,以便预定义值范围。光学图像设备的参数可通过值范围进行调整。所计算的评估可以迭代地实施。

著录项

  • 公开/公告号DE102005048376A1

    专利类型

  • 公开/公告日2007-04-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CARL ZEISS SMS GMBH;

    申请/专利号DE20051048376

  • 发明设计人 ENGEL THOMAS;

    申请日2005-10-10

  • 分类号G03F7/20;G01B11;G01B11/24;G01B11/03;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 20:29:41

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