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Sample processing focused ion beam system for e.g. defect analysis of semiconductor device, has output area fixing settings to data output, and control area controlling condensers, electrodes and lens based on data about settings

机译:样品处理聚焦离子束系统,例如半导体器件的缺陷分析,具有将输出区域固定设置设置为数据输出,并根据有关设置的数据控制区域控制聚光镜,电极和透镜

摘要

The system has a computer unit (16) selecting optical settings for condensers (8), changeable openings, beam deflection electrodes (11) and objective lenses (12) on the basis of data entered into an input device. A data output area is provided for fixing the settings to a data output. A control area controls the condensers, electrodes, openings and the lens based on the data about the settings output by the output area.
机译:该系统具有计算机单元(16),该计算机单元(16)基于输入到输入设备中的数据来选择用于聚光器(8),可变开口,光束偏转电极(11)和物镜(12)的光学设置。提供了一个数据输出区域,用于将设置固定到数据输出。控制区域根据与输出区域输出的设置有关的数据来控制聚光镜,电极,开口和透镜。

著录项

  • 公开/公告号DE102006018942A1

    专利类型

  • 公开/公告日2006-11-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JEOL LTD.;

    申请/专利号DE20061018942

  • 发明设计人 MATSUBA MASAHIRO;

    申请日2006-04-24

  • 分类号H01J37/304;H01J37/305;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 20:29:19

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