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Silicon carbide schottky diode comprises Schottky metal barrier (comprising titanium) formed on silicon face of silicon carbide epitaxial body comprising hydrogen-silicon carbide

机译:碳化硅肖特基二极管包括形成在包含氢-碳化硅的碳化硅外延体的硅面上的肖特基金属势垒(包括钛)。

摘要

A silicon carbide schottky diode comprises a silicon carbide substrate of one conductivity; a silicon face silicon carbide epitaxial body of one conductivity formed on a first surface of the silicon carbide substrate; a Schottky metal barrier (comprising titanium) formed on the silicon face of the silicon carbide epitaxial body; and a back power electrode on a second surface of the silicon carbide substrate opposite the first surface of the substrate. The silicon carbide epitaxial body comprises 4 hydrogen-silicon carbide.
机译:碳化硅肖特基二极管包括具有一种导电性的碳化硅衬底。在碳化硅衬底的第一表面上形成具有导电性的硅面碳化硅外延体;在碳化硅外延体的硅面上形成的肖特基金属势垒(包括钛);在碳化硅衬底的与衬底的第一表面相对的第二表面上的背面功率电极。碳化硅外延体包括4个氢-碳化硅。

著录项

  • 公开/公告号DE102006050405A1

    专利类型

  • 公开/公告日2007-05-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INTERNATIONAL RECTIFIER CORPORATION;

    申请/专利号DE20061050405

  • 发明设计人 RICHIERI GIOVANNI;

    申请日2006-10-20

  • 分类号H01L29/872;H01L29/161;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 20:29:10

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