要解决的问题:提供一种用于制造用于形成有机抗反射层的组合物的方法,由此可以在基底上或在基底表面上形成的底涂层的至少一层上形成有机抗反射层。抑制在基材或底涂层中形成裂纹。
解决方案:用于形成有机抗反射层的组合物的制造方法包括:制备用于形成抗反射层的混合物的步骤;通过稀释和搅拌调节制备的用于形成抗反射层的混合物。并在搅拌后终止用于形成抗反射层的调节混合物的老化。老化步骤包括在调节步骤之后将用于形成抗反射层的混合物在20℃至40℃的温度下保持24至168小时的步骤。
版权:(C)2008,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2008139531A
专利类型
公开/公告日2008-06-19
原文格式PDF
申请/专利权人 SEIKO EPSON CORP;
申请/专利号JP20060325278
申请日2006-12-01
分类号G02B1/11;G02B1/04;B32B7/02;C08J7/04;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 20:25:37