要解决的问题:提供一种等离子体产生装置,其中通过关闭在具有外壳的下部电极中产生的热量以及等离子体分散的现象来防止处理对象的表面损坏。通过使下部电极的一部分突出来防止在被处理物的表面上产生异物,在进行等离子处理的地方附近呼气,并立即除去等离子处理时产生的副产物,从而在处理后的表面上除去副产物。在投影的血浆呼气口周围形成吸气口。
解决方案:等离子体发生装置由施加电源放电电压的第一电极,附着于第一电极或围绕第一电极的由电介质构成的第一电极部分和第二电极组成在第一电极部分的下方以预定距离分开布置,并具有向下延伸的等离子体呼气口。
版权:(C)2008,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2008192618A
专利类型
公开/公告日2008-08-21
原文格式PDF
申请/专利权人 SE PLASMA INC;
申请/专利号JP20080023801
申请日2008-02-04
分类号H05H1/24;H01L21/3065;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 20:25:00