要解决的问题:提供一种回收氨的方法,其中以使杂质的浓度最多降低到50 ppb的方式从氮化物半导体制造设备排出的废气中回收高纯氨。一种用于再利用氨的方法,以提供一种氨回收系统,并提供一种氨再利用系统。
解决方案:氨的回收方法包括以下步骤:从氮化物半导体制造设备11排出的含氨废气中除去氨与有机金属和有机金属的反应产物,从而获得气体混合物;从气态混合物中分离出粗气态氨的阶段;将气态粗氨气液化以获得液化的粗氨气的阶段;在蒸馏液化的粗氨的阶段,从液化的粗氨中除去杂质,得到高纯度的氨。
版权:(C)2008,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2008013406A
专利类型
公开/公告日2008-01-24
原文格式PDF
申请/专利权人 AIR WATER INC;
申请/专利号JP20060186821
申请日2006-07-06
分类号C01C1/12;B01D53/58;B01D3/14;H01L21/205;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 20:22:48