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Maintenance method of exposure device, exposure device, device production method, liquid collection component for maintenance of immersion exposure device

机译:曝光装置的维护方法,曝光装置,装置的制造方法,浸入式曝光装置的维护用集液部件

摘要

Maintenance method of the exposure device which can prevent the fact that the liquid remains behind is offered. The liquid (LQ) the absorption possible liquid collection component (60) the baseplate holder (PH) mounting on, the liquid which remains behind (LQ) you collect.
机译:提供一种可以防止液体残留的曝光装置的维护方法。液体(LQ)是可能吸收的液体收集组件(60),安装在底板支架(PH)上,剩余的液体则留在您要收集的(LQ)后面。

著录项

  • 公开/公告号JPWO2006041091A1

    专利类型

  • 公开/公告日2008-05-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社ニコン;

    申请/专利号JP20060540947

  • 发明设计人 長坂 博之;依田 安史;

    申请日2005-10-12

  • 分类号H01L21/027;G03F7/20;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 20:17:30

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